Intel: proces 10 nm w 2016 roku, 7 nm za kilka lat

Niebiescy produkują w chwili obecnej chipy w 14-nanometrowej litografii i oczywiście nie zamierzają na tym poprzestać. Jak twierdzi Mark Bohr z Intela prace nad procesem 10 nm przebiegają całkiem dobrze, choć nie mamy spodziewać się w jej przypadku wykorzystania technologii EUVL (Extreme Ultra Violet Litography). Prace nad nią nadal nie są na tyle zaawansowane, co oznacza, że użyta ona zostanie najprawdopodobniej dopiero w przypadku procesu 7 nm.

Co ważne, Bohr podkreśla, że doświadczenie wyniesione z prac nad procesem 14 nm zaprocentowało i dzięki nim (oraz napotykanym po drodze problemom) naukowcy są zdecydowanie lepiej przygotowani do wprowadzenia litografii 10-nanometrowej. Tym niemniej nie nastąpi to oczywiście błyskawicznie. Prognozuje się, że masowa produkcja miałaby rozpocząć się za około dwa lata. Bardziej pesymistyczne źródła twierdzą, że trzeba będzie poczekać do 2017 roku.

W przypadku procesu 7 nm mogą być to kolejne 3-4 lata. Intel próbuje znaleźć odpowiednią metodę produkcji, aby uzysk był jak najlepszy, co wcale nie jest proste przy tak małej litografii. Tym niemniej jeśli informacje potwierdzą się, niebiescy mogą jeszcze bardziej odskoczyć AMD, które w 2016 roku miałoby zaprezentować (w końcu) następców niemłodej już Vishery.